Konvenční litografické desky fungují na principu odpuzování oleje a vody a mají dvě odlišné povrchové oblasti. Oleofilní obrazové oblasti přitahují olejovou barvu, zatímco hydrofilní neobrazové oblasti přitahují vodu. Protože vlhčicí a barvicí systémy stroje rozvádějí vodu i barvu po celé desce, tyto chemicky protikladné oblasti zůstávají oddělené.
Základ desky. Většina moderních litografických desek používá tenký kovový základ, přičemž převládá hliník. Je oblíbený díky kombinaci nízké hmotnosti, pružnosti pro obtáčení kolem válce a dostatečné tvrdosti, aby odolal povrchovému tlaku. Alternativy zahrnují nerezovou ocel, měkkou ocel a mosaz.
Tolerance tloušťky. Přísná tolerance tloušťky plechu je pro výrobu desek rozhodující. U desek do 22 x 34 palců (559 x 864 mm) se tloušťka nesmí lišit o více než 0,001 palce (0,025 mm). Například deska o tloušťce 0,012 palce (0,305 mm) musí mít po celém povrchu tloušťku mezi 0,0115 palce (0,292 mm) a 0,0125 palce (0,318 mm), tedy toleranci +/-0,0005 palce (+/-0,013 mm). Nadměrné odchylky způsobují nerovnoměrný tlak během tisku, což vede k nestejným plochám a plným barvám.
Tloušťka desky. Požadovaná tloušťka desky závisí na podříznutí válce a velikosti stroje. Standardní tloušťky se pohybují od 0,0055 palce (0,14 mm) do 0,020 palce (0,51 mm), přičemž velikosti desek dosahují až 59 x 78 palců (1499 x 1981 mm). Válce strojů s větším průměrem vyžadují silnější desky, aby se omezilo protahování a praskání. Sladění tloušťky desky s podříznutím válce snižuje potřebu podkládání; jeden list je méně náchylný k tečení a stlačení než více vrstev.
Zrno desky. Hladký hliníkový povrch způsobuje, že se voda sráží do kapiček, což je s litografií neslučitelné. Aby deska přijala rovnoměrný film vody, je její povrch zrněn mechanickými, chemickými nebo elektrolytickými procesy. Tato příprava zvyšuje toleranci stroje, zkracuje dobu sání vakuového rámu a pomáhá eliminovat halaci. Obrázek 2-30 ukazuje zrněnou anodizovanou hliníkovou desku při dvou zvětšeních.
Ve Spojených státech je běžnou metodou zrnění brusná suspenze. Kontinuální pás hliníku prochází pod rotujícími nylonovými kartáči se směsí brusiva a vody, což vytváří rovnoměrné, tmavé jemné zrno vhodné pro předcitlivé a stírací desky. Následné chemické leptání poskytuje světlejší, čistší a mírně hrubší zrno.
Chemické zrnění nabízí alternativu k mechanickému kartáčování. Používá se především pro úpravu hladkých desek pro krátké náklady před nanesením vrstvy, často oboustranných desek pro malé stroje; tato metoda čistí a mírně zdrsňuje povrch. Bimetalové hliníkové desky se chemicky zrní na mnohem hrubší texturu, zatímco některé kvalitní desky pro dlouhé náklady procházejí elektrochemickým zrněním pro rovnoměrné hrubé zrno. Výjimkou jsou bimetalové desky z nerezové oceli; zůstávají hladké a nezrněné, protože nerezová ocel je přirozeně hydrofilní.
Hruběji zrněné desky poskytují významné výhody: lepší toleranci vyvážení barvy a vody, rychlejší sání vakuového rámu, menší náchylnost k nečistotám a hickeyům, větší odolnost na stroji a menší rozmazání bodů. Ve srovnání s jemně zrněnými deskami však méně dokážou udržet jemné světelné body.
Silikátování. Kromě zrnění jsou u některých typů desek nutné specifické chemické úpravy, zejména u desek natíraných ručně a negativních diazo presenzibilizovaných desek. Diazosloučeniny mohou reagovat s neupravenými kovy, proto se hliník často upravuje v horkém roztoku křemičitanu sodného. Vzniká bariérová vrstva, která brání reakcím, desenzibilizuje desku pro lepší přijímání vody a zlepšuje povrch pro spojení s diazo vrstvou.
Obor nadále klade důraz na přesnou výrobu a stálé vlastnosti materiálů. Vývoj v automatizaci a udržitelném zpracování desek směřuje k vyšší opakovatelnosti a nižšímu dopadu na životní prostředí, aby tato tradiční technologie odpovídala požadavkům moderní výroby.
Anodizace
Většina kvalitních desek se po zrnění anodizuje. Anodizace hliníku je proces, při kterém se elektrolyticky vytváří tenká, rovnoměrná vrstva extrémně tvrdého oxidu hlinitého na zrněném hliníku. Tato anodická vrstva má mnoho velmi malých pórů, podobně jako voština. Anodická vrstva musí být před nanesením fotosenzitivní vrstvy uzavřena. Obvykle se anodická vrstva upravuje horkými roztoky křemičitanu sodného, čímž se dosáhne vysoké přijímavosti vody. Tento proces také připravuje povrch desky pro nanesení světlocitlivé vrstvy. Anodická vrstva je navíc tvrdá, odolná proti oděru a velmi trvanlivá.
Diazo senzibilizátory
Jako senzibilizátor desek se běžně používají diaza rozpustná ve vodě i v rozpouštědlech. Pozitivní desky se natírají diazooxidy nebo chinondiazidy. Expozice UV světlem přeměňuje negativní diaza přímo na nerozpustné pryskyřice s dobrou přijímavostí barvy a trvanlivostí pro tisk. Pozitivní diaza se při expozici světlem rozkládají a stávají se rozpustnými ve vývojce, zatímco neexponované diazo zůstává na desce a tvoří obrazové plochy.
Fotopolymerní senzibilizátory
Tenký polymerní povlak vytváří výborný oleofilní povrch. Řadu různých reaktivních polymerů lze senzibilizovat vhodným fotoiniciátorem pro použití jako povlak desky. Při expozici světlem se exponované části povlaku stanou nerozpustnými ve stejných rozpouštědlech, která rozpouštějí neexponované části povlaku. Termální desky často používají fotopolymerní povlaky, které při expozici světlem tvrdnou. Výsledné obrazy jsou odolné a desky obvykle vydrží dlouhé náklady. Většina fotopolymerních povlaků je vodná (vyvolatelná vodou).
Stříbrohalogenidové senzibilizátory
Stříbrohalogenidové povlaky se k senzibilizaci filmů pro grafické umění používají desítky let. Výrobci nyní používají stříbrohalogenid jako senzibilizátor desek. Světlocitlivé stříbrohalogenidy jsou suspendovány v emulzní vrstvě, která leží na tzv. vrstvě jader. Tyto dvě vrstvy odděluje bariéra. Laser v osvitové jednotce exponuje neobrazové plochy desky a redukuje stříbrohalogenidy. Během zpracování neexponované stříbrohalogenidy difundují přes bariérovou vrstvu do vrstvy jader, kde se redukují na molekulární stříbro, které je svou povahou oleofilní. Druhý krok zpracování odstraní z povrchu desky exponované stříbro a odpovídající vrstvu jader.